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产品中心
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产品介绍: 产品用途：电子级氢氟酸在晶圆清洗工艺中用于去除氧化物层和与其他酸配合使用，去除金属离子等污染物；在蚀刻工艺中，用于高精度二氧化硅绝缘层或隔离层的蚀刻；用于离子注入后处理中去除掺杂玻璃层等半导体工艺中。电话: 0543-2117743
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产品介绍: 电子级氟化氢主要用于干法蚀刻工艺中的硅及多晶硅蚀刻，作为主要的蚀刻介质；用于化学气相沉积（CVD）中的氮化硅薄膜沉积，作为重要的氟源前驱体；以及用于腔室清洗工艺，清除CVD反应室内的硅化物沉积物。电话: 0543-2117743
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产品介绍: 电子级BOE（缓冲氧化物刻蚀液）是一种用于微细加工的湿式蚀刻剂，主要用于蚀刻二氧化硅（SiO₂）或氮化硅（Si₃N₄）薄膜。电话: 0543-2117743
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