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产品用途:电子级氢氟酸在晶圆清洗工艺中用于去除氧化物层和与其他酸配合使用,去除金属离子等污染物;在蚀刻工艺中,用于高精度二氧化硅绝缘层或隔离层的蚀刻;用于离子注入后处理中去除掺杂玻璃层等半导体工艺中。
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