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电子级氯气主要用于硅及多晶硅蚀刻、金属蚀刻、化合物半导体蚀刻等干法蚀刻,硅外延生长和氮化硅沉积等薄膜沉积、以及CVD或蚀刻轻体内的硅/金属沉积物的腔体清洗等工艺。
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